破解美国制裁！国产芯片设备巨头借并购补齐PVD与刻蚀短板

发布日期：2026-07-12 19:44    点击次数：100

快科技 7 月 1 日消息，半导体设备龙头拓荆科技于近日发布公告，公司正筹划以发行股份及支付现金的方式收购无锡尚积半导体控股权。

此次收购意在进一步拓展拓荆科技在半导体薄膜沉积与刻蚀领域的业务布局。

无锡尚积成立于 2021 年，主营 PVD 物理气相沉积、ETCH 刻蚀和 CVD 化学气相沉积等核心设备。公开资料显示，拓荆科技总市值已达 2352 亿元。2025 年度公司实现营业收入 65.19 亿元，同比增长 58.87%。

本次收购将精准补齐拓荆科技在 PVD 与干法刻蚀领域的短板。拓荆科技表示，收购将推动公司从单一设备商向核心工艺整体解决方案提供商升级。

2024 年 12 月，美国商务部将约 140 家中国实体增列至出口管制实体清单，拓荆科技位列其中。此次并购正是在美国持续施压背景下展开的战略布局。

值得注意的是，中微公司也在同期完成对杭州众硅的战略收购。半导体业内人士认为，国家大基金释放出清晰的政策信号，支持头部企业通过并购整合提升产业整体竞争力。

需要指出的是，此次交易尚处筹划阶段，标的资产估值及定价尚未确定。